Этилендиаминовый электролит меднения
Электролит пирофосфатного цинкования содержит, г/л: сернокислого цинка, кристаллогидрата 60-70, пирофосфорнокислого калия, кристаллогидрата 350380, фосфорнокислого аммония двузамещенного 45-55, сульфониловой кислоты 0,2-0,8; рН = 8,5 - 9,5. Катодная плотность тока 1-2 А/дм2 18-25 °С; 2-4 А/дм2 при температуре 35-40 °С. Время осаждения 1 мкм цинка составляет 2,2 мин при плотности тока 2 А/дм2 либо 1,1 мин при плотности тока 4 А/дм2; рН = 8,5 - 9,5.
Этилендиаминовый электролит меднения содержит, г/л: сернокислой меди 100-125, этилендиамина (100%) 50-60, сернокислого натрия 50-60, сернокислого аммония 50-60. Режим работы: температура меднения (20 ± 5) °С, рН = 8,2 - 8,5, катодная плотность тока 0,5-1,0 А/дм2, отношение анодной поверхности к катодной 2:1. Выдержка до получения осадка толщиной 3-4 мкм. Доращивание необходимой толщины медного покрытия производится из сернокислого электролита. Для улучшения качества сцепления осадка с основой выполняют операцию предварительного меднения в тартратном электролите состава, г/л: сернокислая медь 3-5, едкий натр 80-100, сегнетова соль 30-50. Режим работы: температура (20 ± 5) °С, катодная плотность тока 4-6 А/дм2. Детали выдерживают в указанном составе без тока в течение 20-30 с, затем под током в течение 1-1,5 мин.
Рекомендуется также железистосинеродистый электролит меднения состава, г/л: сернокислая медь (в пересчете на металл) 15-30, железистосинеродистый калий 180-250, едкий кали 7-25, сегнетова соль 90-100. Режим работы: температура (55 ± 5) °С, катодная плотность 1,5-2,0 А/дм2, отношение анодной поверхности к катодной 6:1. При плотности тока 2 А/дм2 скорость осаждения составляет 1 мкм за 1,5 мин.
В качестве покрытия для стальных деталей применяют биникель, который можно наносить, исключая подслой меди. Процесс никелирования по схеме "биникель" заключается в последовательном нанесении полублестящего и блестящего никелевых покрытий из растворов соответственно составов 1 и 2, г/л: