Глубина цианированного слоя
35. Глубина цианированного слоя в зависимости от режима выдержки при цианировании деталей пастами (температура цианирования 920-930 °С)
Время выдержки, ч |
Глубина слоя, мм |
Время выдержки, ч |
Глубина слоя, мм |
||
Паста № 1 |
Паста № 2 |
||||
0,75 |
|
0,85 |
0,50 |
|
0,70 |
1,00 |
|
1,25 |
0,75 |
|
0,80 |
1,50 |
|
1,65 |
1,00 |
|
0,90 |
2,00 |
|
1,80 |
1,50 |
|
1,25 |
3,00 |
|
2,00 |
2,00 |
|
1,60 |
4,00 |
|
2,50 |
2,00 |
|
1,60 |
Для получения нитридных покрытий используют установку, оснащенную герметичной камерой с расположенным в ее центре электродом-подставкой, на которую устанавливается обрабатываемое изделие. Над электродом-подставкой расположен кольцевой анод. Через камеру прокачивается смесь азота с водородом. Причем отношение концентраций М2/Н2 колеблется в пределах 0,5-2,0. Рабочее давление в камере 0-665 Па, напряжение разряда 400-800 В, ток 0-1 А, температура нагрева изделия при обработке 300-500 °С.
Процесс ионного азотирования выполняют в две стадии: первая - очистка изделий катодным распылением; вторая - собственно насыщение. Катодное распыление проводят в течение 5-60 мин при напряжении 1100-1400 В и давлении 13-26 Па, температура поверхности азотируемого изделия не превышает 250 °С. Собственно азотирование выполняют при 470-580 °С при разрежении 130-1300 Па и рабочем напряжении 400-1100 В; продолжительность процесса составляет от нескольких минут до 24 ч в зависимости от требований к свойствам обработанной поверхности. Неазотируемые поверхности гальванически покрывают, например, никелем (толщина покрытия 10-15 мкм) или используют специальные экраны. Ионное азотирование выполняют в вакууме на оборудовании, аналогичном используемому при электронно-лучевой сварке. Требуемая чистота потока ионов составляет 90%.
Установка для ионного азотирования состоит из вакуумной рабочей камеры, источника высокого напряжения и диффузионного насоса. Отечественная промышленность выпускает печи для ионного азотирования типа НШВ-28.7/6.