Санкт-Петербург: 8-812-402-70-55
Москва: 8-495-125-70-55

info@reductory.ru
Название организации:
Имя:
Номер телефона:
Email:
Город:
Адрес доставки:
Требуемая продукция:
ОтменаПодтвердить

Нанесение покрытия из карбидов титана.

После этого повышают температуру печи до 1000-1100 °С (при неизменных прочих параметрах) и проводят осаждение карбида ниобия в течение не более 1,5 ч. Затем прекращают подачу Nbd5 (закрывают затвор контейнера). Печь охлаждают вместе с изделиями. В результате изделия покрываются ровным, плотным, прочно сцепленным с осно­вой слоем №С серебристого цвета толщиной до 30 мкм.

Пример 2. Нанесение покрытия из карбидов титана. Режущие пластины поме­щают в печь, вакуумируют установку до получения в камере давления 0,01-0,001 Па. Нагревают контейнер с кристаллическим иодом до температуры 40-50 °C. а за­тем печь с изделиями - до 550-600 °С. После этого сопловое устройство с размещен­ной внутри стружкой титана нагревают до 400-500 °С. Открывают затвор контейне­ра с иодом. Иод, взаимодействуя с титановой стружкой, образует иодиды титана различной валентности. Полученную смесь иода и иодидов титана направляют к изделиям, проводят травление в течение 50 мин. Затем повышают температуру из­делий до 1050-1150 °С и проводят осаждение карбида титана в течение 1 ч. Полу­ченные покрытия толщиной 8 мкм имеют хорошую адгезию и увеличивают стой­кость режущих пластин.

Пример 3. Нанесение покрытия из сложных карбидов титана и ванадия. Режу­щие пластины из сплава Т15К6 подвергают травлению иодом в смеси с иодидами ванадия по методике, указанной в примере 2. Стружку титана, смешанную со стружкой ванадия в соотношении 1 : 5, выдерживают при более высокой температу­ре (800-900 °С) вследствие низкой летучести диодида ванадия. Осадки толщиной 5­20 мкм, как и в предыдущих примерах, получаются равномерными, беспористыми, прочно сцепленными с основой. Они представляют собой сплав карбидов титана и ванадия переменного состава.

С помощью приемов, аналогичных описанным в примерах, наносят покры­тия ZrQ ТаС и др. В качестве исходных реагентов используют пентахлорид нио­бия (Nbd5), тетраиодид титана (ТП4), тетрахлорид циркония (ZrCI4), пентахло­рид тантала (TaCl5), дииодид ванадия (У12) и др.