Санкт-Петербург: 8-812-402-70-55
Москва: 8-495-125-70-55

info@reductory.ru
Название организации:
Имя:
Номер телефона:
Email:
Город:
Адрес доставки:
Требуемая продукция:
ОтменаПодтвердить

Режимы силицирования стали

Силицирование - диффузионное насыщение поверхностного слоя стали кремнием. Силицированный слой обладает повышенной стойкостью против кор­розии в морской воде и кислотах, а также повышенной износостойкостью при дос­таточно низкой твердости (200-250 HV). Процесс выполняют в порошкообразных смесях, жидких или газовых средах. Режимы силицирования приведены в табл. 47.

47. Режимы силицирования стали

Содержание компонентов в насыщающей среде, % (мас. доля)

Температура, °С

Продолжительность, ч

Глубина слоя, мм

Примечание

Силицирование в порошкообразных смесях

Ферросилиций 75; шамот или оксид алюминия 20; хлористый аммоний 5

1100-1200

6-12

0,15-0,8

-

Газовое силицирование

Газовая фаза, образующая­ся при введении хлора в среду, загруженную изде­лиями и ферросилицием (или карбидом кремния)

950-1050

2-5

0,4-0,8

Процесс ведут в муфельных печах. Количество карбида кремния или ферро­силиция - 1/10 массы деталей


Для силицирования в порошкообразных смесях детали упаковывают в ме­таллические ящики, заполненные рабочей смесью, и помещают в печь, нагретую до температуры 950-1100 °С. Продолжительность времени выдержки для полу­чения силицированного слоя заданной глубины зависит от температуры процес­са и размеров ящика. Ориентировочно можно считать, что для ящиков средних размеров при температуре 1100 °С за 6 ч глубина образующегося силицирован- ного слоя достигает 0,15 мм. Силицирование в жидкой среде выполняется в рас­плаве солей хлористого бария и хлористого натрия (1 : 1) с добавлением ферро­силиция (20% общей массы солей). В таком расплаве при температуре 1000 °С на детали из низкоуглеродистой стали за 2 ч создается силицированный слой глубиной до 0,35 мм. Процесс осуществляется в электродных печах-ваннах.

Силицирование в газовых средах проводят в хлоре, смесях хлора и водоро­да, а также азота и водорода. Источником атомарного кремния служат ферроси­лиций, карбид кремния (SiC), тетрахлорид кремния (SiCl4) и моносилан (SiH4). Наиболее часто газовое силицирование проводят в среде хлора или смеси хлора и водорода в печи с вращающейся ретортой.